光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，在半导体工业、PCB、平板显示等领域得到广泛应用。目前，全球缺芯背景下晶圆厂产能扩张正逐步迎来落地，半导体光刻胶市场需求稳步向上。

1、行业最新政策

200年12月财政部、税务总局、发改委联合发布《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》，国家鼓励的集成电路线小于28纳米（含），且经营期在15年以上的集成电路生产企业或项目，第一年至第十年免征企业所得税；国家鼓励的集成电路线宽小于65纳米（含），且经营期在15年以上的集成电路生产企业或项目，第一年至第五年免征企业所得税，第六年至第十年按照25%的法定税率减半征收企业所得税；国家鼓励的集成电路线宽小于130纳米（含），且经营期在10年以上的集成电路生产企业或项目，第一年至第二年免征企业所得税，第三年至第五年按照25%的法定税率减半征收企业所得税。2021年3月发改委、工信部、财政部、海关总署发布《关于做好享受税收优惠政策的集成电路企业或项目、软件企业清单制定工作有关要求的通知》，光刻胶生产企业入围“清单”，可享受税收优惠政策。

2、市场规模

近年来，光刻胶在半导体工业、PCB、平板显示等领域广泛应用，市场规模逐年增长。的数据显示，我国光刻胶市场规模由2017年58.7亿元增至2020年84亿元，年均复合增长率为12.7%。2021年市场规模增长至93亿元，预计在2022年我国光刻胶市场规模将达到99亿元。

3、市场产量

在国家一系列红利政策带动下，作为半导体、平板显示及PCB行业制造缓解的关键材料，光刻胶的市场需求得到快速释放，尤其是LCD光刻胶产量增长明显。2020年我国光刻胶市场产量由2017年的8万吨增长至13万吨。2021年产量提高到15万吨，预计在2022年光刻胶产量将达20万吨。

4、市场结构

根据光刻胶的应用领域，光刻胶可主要分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。研精毕智团队调研的数据显示，目前，我国光刻胶市场主要以PCB用光刻胶供应为主，占比高达94%，面板、半导体用光刻胶自给率依然很低，占比分别为3%、2%，进口依赖性高。

5、专利申请情况

从光刻胶专利申请数量占比看，日本占比最高，约46%；其次是美国、韩国、中国、德国，占比分别为25%、9%、7%、3%。其中，佳能株式会社、株式会社东芝、三星电子株式会社申请数量位列前3，均超过2.3万项。中国专利申请数量占比仅为7%，本土企业发展空间较大。

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